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  • 高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
    高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV

    產品簡介:高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道質量流量控制器和高真空機組組成的CVD系統(tǒng),其爐管直徑為4″,溫度可達1200℃,極限真空可達10-5torr,混氣系統(tǒng)可對1-9種氣體進行精確的混合,然后導入管式爐內部,可用來研究氣體環(huán)境對材料的影響

    更新時間:2024-03-12型號:瀏覽量:142
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  • 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV
    高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV

    產品簡介:高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″)的退火,并采用10KW的紅外燈進行加熱,升溫速度可達120℃/s,配有RS485接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線

    更新時間:2024-03-12型號:瀏覽量:151
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  • 高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV
    高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV

    產品簡介:高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,工作溫度可達1200℃,混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入管式爐內部,本系統(tǒng)極限真空度可達10-5torr

    更新時間:2024-03-12型號:瀏覽量:126
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  • 帶滑動法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV
    帶滑動法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV

    產品簡介:帶滑動法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃,并通過調整三個溫區(qū)而建立不同梯度的熱場,可進行退火、擴散、在不同氣氛中燒結樣品及CVD等實驗

    更新時間:2024-03-12型號:瀏覽量:145
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  • 1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV
    1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV

    產品簡介:1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,工作溫度可達1600℃,混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入管式爐內部,本系統(tǒng)極限真空度可達10-5torr

    更新時間:2024-03-12型號:瀏覽量:132
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  • 1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV
    1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV

    產品簡介:1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV是由單溫區(qū)管式爐、三路浮子混氣系統(tǒng)和雙旋片式真空泵組成,工作溫度可達1700℃,混氣系統(tǒng)可以對三種氣體進行精確的混氣,真空度可達5×10-2torr

    更新時間:2024-03-12型號:瀏覽量:128
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