產(chǎn)品型號

TFMS-LD 反射光譜薄膜測厚儀

測量膜厚范圍

15nm-50um

光譜波長

400 nm - 1100 nm

主要測量透明

或半透明薄膜

厚度

氧化物

氮化物

光刻膠

半導體（硅，單晶硅，多晶硅等）

半導體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS 等）

硬涂層（碳化硅，類金剛石炭）

聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

金屬膜

特點

測量和數(shù)據(jù)分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜

包含了 500 多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等

體積較小，方便擺放和操作

可測量薄膜厚度，材料光學常數(shù)和表面粗糙度

使用電腦操作，界面中點擊，即可進行測量和分析

精度

0.01nm 或 0.01%

準確度

0.2%或 1nm

穩(wěn)定性

0.02nm 或 0.02%

光斑尺寸

標準 3mm,可以小至 3um

要求樣品大小

大于 1mm

分光儀/檢測器

400 - 1100 nm 波長范圍

光譜分辨率: < 1 nm

電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

5W 的鎢鹵素燈

色溫： 2800K

使用壽命:1000 小時

反射探針

光學纖維探針， 400um 纖維芯

配有分光儀和光源支架

載樣臺

測量時用于放置測量的樣品

通訊接口

USB 接口，方便與電腦對接

TFCompanion

軟件

強大的數(shù)據(jù)庫包含兩 500 多種材料的光學常數(shù)（n：折射率， K：消失系數(shù)）

誤差分析和模擬系統(tǒng)，保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準確性

可分析簡單和復雜的膜系

設備尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg