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產(chǎn)品簡介:微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體,內(nèi)部設有加熱圈對樣品進行加熱,溫度可以達到400℃,且采用程序化控溫,系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機械泵,整套系統(tǒng)安放于移動架上,便于實驗操作
產(chǎn)品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
產(chǎn)品簡介:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
產(chǎn)品簡介:OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVD或CSS法制作薄膜